2018年对英特尔来说是艰难的一年，遭遇了X86漏洞、CEO被炒、14nm产能不足等问题，不过对英特尔伤害最大的还是10nm工艺不断延期，这严重损害了英特尔在先进工艺上领导者的形象。对于10nm工艺，英特尔官方的路线图中还是2019年底出货，首先用于FPGA，服务器及PC处理器在2020年跟进10nm工艺。上周末主管英特尔工艺、制造业务的Murthy Renduchintala谈到了英特尔的制程工艺路线图，他提到英特尔的10nm工艺性能水平还是2014年的标准，也就是否认了10nm工艺缩水的可能，不过他也首次证实了英特尔7nm节点会使用EUV工艺，而且7nm工艺从10nm工艺中吸取了教训，是两个团队开发的，7nm EUV工艺不会受到10nm工艺延期的影响。

根据英特尔早前所说，10nm工艺之所以难产的一个关键是它最初的指标定的太高了，相比14nm工艺，10nm工艺的晶体管密度是前者的2.7倍，也就是2.7x水平的缩放水平，远高于业界2x的平均水平，这也导致10nm工艺制造困难，不断延期，以致于早前有消息称英特尔在明年底量产的10nm工艺中会降低技术指标，更像是12nm工艺而非最初设定的10nm工艺，也就是说新的10nm工艺会“缩水”。

在上周的纳斯达克39届投资者会议上，英特尔高级副总Murthy Renduchintala谈到了英特尔公司10nm、7nm等先进工艺的情况，首先来说10nm工艺——“英特尔的10nm工艺野心没变”，Renduchintala这句话相当于否认了10nm工艺缩水的传闻，他说与2014年设定的目标相比，10nm工艺在性能、密度及功耗上的指标保持不变。

官方这么表态意味着明年底的10nm工艺在性能、密度等方面还会保持优势，不过10nm工艺的生命周期可能不会很长，因为Murthy Renduchintala还谈到了英特尔的7nm工艺，确认7nm节点他们会使用EUV工艺，在这点上英特尔之前的表态是即便没有EUV工艺，他们也懂得如何制造7nm芯片，因为英特尔在多重曝光工艺上一直很强势，但是现在看来7nm节点上他们也会跟台积电、三星一样开始依赖EUV光刻工艺。

根据Murthy Renduchintala所说，他们吸取了10nm工艺上的教训，10nm及7nm工艺是两个不同的团队开发的，所以10nm延期不会影响7nm的进度，目前7nm EUV工艺正在路上，进展良好。

不过英特尔方面并没有给出7nm EUV工艺具体的量产时间，台积电、三星预计会在2019年量产7nm EUV工艺，但是对EUV工艺的利用依然还是初步的。