• 美光:下一代1Y nm工艺DRAM正在验证中,暂不需要EUV光刻

    孟宪瑞 发布于2018-06-04 15:21 / 关键字: 美光, EUV, DRAM, 制造工艺, 光刻, 1Y nm

    今年台积电、三星及Globalfoundries等公司都会量产7nm工艺,第一代7nm工艺将使用传统的DUV光刻工艺,二代7nm才会上EUV光刻工艺,预计明年量产。那么存储芯片行业何时会用上EUV工艺?在美光看来,EUV光刻工艺并不是DRAM芯片必须的,未来几年内都用不上,在新一代工艺上他们正在交由客户验证1Y nm内存芯片,未来还有1Z、1α及1β工艺。

    内存行业在未来几年都不需要EUV光刻机

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  • 英特尔7200万美元投资新兴公司,押注未来2nm工艺

    孟宪瑞 发布于2018-05-09 14:38 / 关键字: 英特尔, 风投, 2nm, EUV, 光刻

    英特尔公司目前正在为10nm工艺的难产而头疼,未来一年的主力工艺还将是14nm的各种改良版,而竞争对手台积电、三星已经开始量产7nm工艺。英特尔是摩尔定律的提出者,也是该定律最坚定的支持者,现在需要拿出点真材实料了,他们日前向12家新兴公司投资了7200万美元,其中一家公司将在未来三年解决EUV光刻工艺的光源问题,制程工艺因此可能微缩至2nm水平。

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  • 摩尔定律还未死,EUV光刻工艺可用到15年后的1.5nm节点

    bolvar 发布于2017-01-21 11:29 / 关键字: EUV, 光刻, 1.5nm, 工艺, 半导体

    半导体制造工艺进入10nm之后,难度越来越大,Intel为此多次调整了产品策略,10nm工艺的产品推迟到今年底,以致于很多人认为摩尔定律将死。推动科技进步的半导体技术真的会停滞不前吗?这也不太可能,7nm工艺节点将开始应用EUV光刻工艺,研发EUV光刻机的ASML表示EUV工艺将会支持未来15年,部分客户已经在讨论2030年的1.5nm工艺路线图了。

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