• 单价1.2亿美元,中芯国际的EUV光刻机明年交付:国产7nm有戏了 ...

    孟宪瑞 发布于9天之前 / 关键字: EUV, 光刻机, ASML, 中芯国际, 7nm

    今年英特尔、台积电、三星、Globalfoundries等半导体公司的制程工艺已经进化到了10nm、7nm节点,国产最先进的工艺依然是28nm工艺,差距在三代以上。国内半导体工艺为什么发展不起来?很多人会说中国缺少先进的光刻机,特别是EUV光刻机,而不能引进的缘由是美国欧盟禁售EUV给中国。这实际上也是一个流传多年的谣言了,EUV光刻机很快就要进入中国了,日媒报道称中芯国际已经向ASML订购了一台EUV光刻机,单价1.2亿美元,预计明年初交付。

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  • 英特尔7200万美元投资新兴公司,押注未来2nm工艺

    孟宪瑞 发布于2018-05-09 14:38 / 关键字: 英特尔, 风投, 2nm, EUV, 光刻

    英特尔公司目前正在为10nm工艺的难产而头疼,未来一年的主力工艺还将是14nm的各种改良版,而竞争对手台积电、三星已经开始量产7nm工艺。英特尔是摩尔定律的提出者,也是该定律最坚定的支持者,现在需要拿出点真材实料了,他们日前向12家新兴公司投资了7200万美元,其中一家公司将在未来三年解决EUV光刻工艺的光源问题,制程工艺因此可能微缩至2nm水平。

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  • 每次半导体制程技术的升级,难度都远非我们能想象

    Origin 发布于2017-11-17 11:05 / 关键字: EUV, 10nm, 7nm, 3nm

    随着闸极越做越小,制程线宽不断升级,由10年前的90nm,65nm一直升级到现在的14/16nm,10nm甚至7nm,摩尔定律都在有条不紊着指挥半导体行业前进的路线。但是随着源极和汲极之间的距离越来越短,半导体工艺的极限逐渐显露出来。大多数人都发现了,升级到10nm和7nm所遇到的困难不是捂个被子睡个觉醒来就能解决的,因为除了技术原因还有诸多逐渐浮现出来的不可控因素。

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  • 三星宣布推出EUV技术制程工艺,明年开始投产

    Origin 发布于2017-09-11 19:48 / 关键字: 三星, EUV, 7nm, 11nm

    荷兰ASML公司制造的EUV光刻机是所有半导体厂商梦寐以求的抢手货,但制造难度极高的EUV(极紫外)光刻机在据说今年内的年产量只有12台,也就是1个月只有1台能出售给半导体厂商。不过三星始终是三星,在半导体领域的影响力确实是大,今天三星就宣布推出采用EUV技术的11nm LPP和7nm LPP工艺,他们的半导体路线图又向前迈进了一步。

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  • EUV光刻机供不应求,ASML公司收入增长25%

    Origin 发布于2017-07-20 17:26 / 关键字: EUV, 光刻机

    目前三星和TSMC等半导体生产商的EUV极端紫外线光刻机均采购自荷兰的ASML公司,作为光刻机的龙头老大荷兰ASML占据着高达80%的市场份额,垄断了高端光刻机的市场,尼康也不是ASML的对手。Intel,TSMC,三星等公司用来制造14/16nm芯片的光刻机都是从ASML公司那买来的,正因为此,ASML的收入在今年增长了25%。

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  • 想为苹果代工A12不容易,三星、台积电争相发力7nm

    孙新晓 发布于2017-07-20 17:10 / 关键字: 7nm制程, A12, 台积电, 三星, EUV

    三星最近从台积电手里抢去了一部分苹果的A12芯片的订单——A12芯片的生产原本是台积电一家独揽的,而台积电在上月刚刚获得了高通下一代骁龙处理器840/845的生产订单,这让7nm芯片代工市场的气氛一下子变得火药味十足,虽然苹果在之前也有过将同一芯片分别委托给不同代工厂生产的做法,但苹果这次“分蛋糕”背后的意义却更加耐人寻味了。

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  • 准备蜕变的PS5,将会使用何种工艺?

    Origin 发布于2017-06-22 12:20 / 关键字: PS5, EUV, 7nm, TSMC, GlobalFoundries

    在E3上微软正式发布了Xbox One X,在继承了现有的架构后将性能上提升到了一个新的高度,而其最大的对手索尼的PS4系列已经上市了近4年,虽说主机的生命周期很长,但近年来AMD的发力确实刺激到了主机厂商的痛点,下一代PS5的发布也将会被索尼提上日程。有猜测指PS5将会在2019年左右发布,到时候强大的AMD芯片将会成为这台新主机的心脏。

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  • EUV光刻机有望进入中国?ASML与上海签订合作协议

    bolvar 发布于2017-06-22 10:53 / 关键字: ASML, 光刻机, EUV, 上海

    中国是全球最大的半导体市场,但是国产化率很低,主要的芯片研发、生产、测试都要依赖国外公司,所以这几年主管部门加大了半导体产业投入,各地投资兴建晶圆厂、封装厂已经屡见不鲜。有了政府扶植,国内公司不差钱,但是并不掌握半导体核心技术,比如光刻机这种芯片制造关键设备就严重落后于Intel、三星等公司。受制于美国等国家的封锁,中国公司有钱也买不到先进光刻机,特别是下一代工艺中至关重要的EUV光刻机,不过EUV光刻机的生产方ASML日前宣布进军中国,将在上海设立一个培训中心。

    光刻机是处理器制造过程中非常重要的一步

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  • 尼康起诉ASML/卡尔蔡司光刻机专利侵权,ASML对此表示失望

    bolvar 发布于2017-04-25 13:19 / 关键字: 尼康, ASML, 光刻机, EUV, 专利

    光刻机是集成电路制造过程中的核心设备,也是提升先进工艺的拦路虎,中国半导体工艺提升不上去跟光刻机被禁售也有一定关系。在光刻机领域,特别是即将到来的EUV光刻机市场上,荷兰ASML公司现在成了唯一的选择,尽管一套EUV光刻机售价超过1亿欧元,但是Intel、三星、TSMC公司依然大把砸钱升级EUV光刻机。曾几何时,日本公司在光刻机领域也是称霸一方的,光学实力强劲的尼康、佳能也是光刻机市场巨头,不过现在日系公司在光刻机辉煌不再。意外的是,今天尼康公司宣布在全球起诉ASML及合作伙伴卡尔蔡司侵犯了尼康的专利权

    ASML的EUV光刻机在新一代半导体市场上炙手可热

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  • TSMC的7nm工艺可造4GHz ARM处理器,增强版7nm才上EUV工艺

    bolvar 发布于2017-03-20 10:28 / 关键字: TSMC, 7nm, EUV, 4GHz ARM

    在三星宣布10nm、7nm节点之外会推出8nm、6nm优化版工艺之后,TSMC日前也公布了该公司的一些工艺进展情况,10nm工艺已经进入量产阶段,没多少秘密可说了,但是未来的7nm节点看点就多了。TSMC表示第一代7nm工艺制造出的256Mbit SRAM芯片良率已达76%,ARM公司据说正在使用新的设计制造4GHz ARM处理器了此外,TSMC的7nm也会发展多代产品,但是增强版7nm工艺才会使用EUV工艺,第一代并不会。

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  • 摩尔定律还未死,EUV光刻工艺可用到15年后的1.5nm节点

    bolvar 发布于2017-01-21 11:29 / 关键字: EUV, 光刻, 1.5nm, 工艺, 半导体

    半导体制造工艺进入10nm之后,难度越来越大,Intel为此多次调整了产品策略,10nm工艺的产品推迟到今年底,以致于很多人认为摩尔定律将死。推动科技进步的半导体技术真的会停滞不前吗?这也不太可能,7nm工艺节点将开始应用EUV光刻工艺,研发EUV光刻机的ASML表示EUV工艺将会支持未来15年,部分客户已经在讨论2030年的1.5nm工艺路线图了。

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  • 每台售价超过1亿欧元的EUV光刻机,ASML卖了18台

    bolvar 发布于2017-01-19 10:20 / 关键字: ASML, EUV, 光刻机, Intel

    每每提到半导体行业发展,免不了要说下中国最近两年发展集成电路的决心之强、投资之大,国内公司对人才也求贤若渴,不惜高薪挖人,但在关键技术上,我们落后欧美公司还是挺多的,特别是在半导体制造装备上,先进的光刻机还被欧美封锁,有钱也买不到。进入10nm工艺节点之后,EUV光刻机越来越重要,全球能产EUV光刻机的就是荷兰ASML公司了,他们总共卖出18台EUV光刻机,总价值超过20亿欧元,折合每套系统售价超过1亿欧元,可谓价值连城。

    ASML公司的光刻机是半导体生产中至关重要的装备

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  • ASML 20亿美金入股卡尔蔡司,合作研发EUV光刻系统

    bolvar 发布于2016-11-07 11:23 / 关键字: ASML, EUV, 卡尔蔡司, 半导体

    半导体制造工艺是集成电路产业的核心,未来摩尔定律是否还能主宰产业发展就得看半导体工艺是否能在10nm以下的工艺继续突破了,而在这个问题上,荷兰ASML公司的EUV光刻机何时成熟就是个关键了。上周ASML公司宣布斥资20亿美元入股卡尔蔡司公司,双方将合作研发EUV光学系统, 只不过相关成品至少要到2024年才能问世。

    ASML公布的工艺路线图,EUV工艺将在7nm节点开始启用

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  • 为了2017年量产7nm工艺,三星首次引入了EUV光刻机

    bolvar 发布于2016-05-09 10:10 / 关键字: 三星, TSMC, EUV, 7nm

    由于半导体工艺越来越复杂,Intel的“Tick-Tock”钟摆战略已经放缓,从2年升级一次工艺变成了3年一次,10nm工艺已经延后到了2017年下半年。Intel脚步放慢,三星、TSMC可算是得到超越的机会了,原本跟在Intel后面的它们发力新一代工艺,不仅10nm工艺量产时间超过Intel,下下代的7nm节点上也在摩拳擦掌,这两家争着在明年抢先量产,而三星更是第一家引入量产型EUV光刻机,后者是制造7nm及5nm处理器的关键设备。

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  • 7nm工艺关键设备EUV光刻机产能提升,但离量产还很远

    bolvar 发布于2016-01-25 09:44 / 关键字: intel, euv, asml, TSMC

    我们都知道半导体工艺越先进越好,用以衡量工艺进步的就是线宽,常说的xxnm工艺就代表这个,这个数字越小就代表晶体管越小,晶体管密度就越大。现在半导体公司已经进军10nm工艺,但面临的物理限制越来越高,半导体工艺提升需要全新的设备。EUV极紫外光刻机就是制程突破10nm及之后的7nm、5nm工艺的关键,现在ASML公司的EUV光刻机正在不断提高产能和可靠性,但距离量产还有一段距离。

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