日前GlobalFoundries与三星联合宣布，两者携手同步制造采用28nm HKMG工艺高性能低漏电率的芯片。据称这种工艺专为移动设备处理器而设，例如智能手机、平板电脑和笔记本电脑等。
据消息显示，新工艺的产品比现有的45nm工艺产品在同样频率下可节省60%的功耗，同样功耗下则可以提升55%的性能。在两家的晶圆厂同步投产后，客户的芯片无需重新设计也可以在两者的晶圆厂内同步生产。
另外GlobalFoundries也在近日宣布，他们的20nm工艺试验芯片流片成功，已经在新工艺的发展道路上迈出了里程碑般的一步。不过关于新工艺的细节，GlobalFoundries并没有进行透露。
消息来源：[Xbit-Labs]
游客 2011-09-05 18:58
该评论年代久远，荒废失修，暂不可见。
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游客 2011-08-31 19:25
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游客 2011-08-31 19:01
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游客 2011-08-31 17:01
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游客 2011-08-31 16:32
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