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ASML已交付第三代EUV光刻机,可用于制造2nm芯片
吕嘉俭 发布于2024-03-18 16:27 / 关键字: ASML, 阿斯麦, EUV
最近ASML(阿斯麦)交付了第三代极紫外(EUV)光刻工具,新设备型号为Twinscan NXE:3800E,配备了0.33数值孔径透镜。相比于之前的Twinscan NXE:3600D,性能有了进一步的提高,可以支持未来几年3nm及2nm芯片的制造。
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传ASML有意搬离荷兰:产能扩张需求,不满当地营商环境
吕嘉俭 发布于2024-03-07 14:13 / 关键字: ASML, 阿斯麦
要说过去几年里半导体行业最耀眼的明星,ASML(阿斯麦)算是其中之一。作为世界上仅有生产EUV和High-NA EUV光刻机的设备供应商,ASML这几年站到了世界半导体技术的中心位置,提供了生产7nm以下芯片不可获取的制造工具。
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ASML探索Hyper-NA EUV光刻机可行性,将成为2030年之后的新愿景
吕嘉俭 发布于2024-02-18 14:43 / 关键字: ASML, 阿斯麦, Hyper-NA EUV
近年来,ASML站到了世界半导体技术的中心位置,成为了先进半导体生产供应链的关键一环。目前ASML有序地执行其路线图,在EUV之后是High-NA EUV技术,去年末已向英特尔交付了业界首台High-NA EUV光刻机。
近日,ASML首席技术官Martin van den Brink在ASML的2023年年度报告中谈及了Hyper-NA EUV光刻机,这是High-NA EUV之后的继任者。Hyper-NA和逻辑电路息息相关,而且相比High-NA EUV上采用双重曝光的成本更低,同时也为DRAM带来了新机遇。
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High-NA EUV光刻机价值3.8亿美元,ASML已收到10至20台订单
吕嘉俭 发布于2024-02-16 06:59 / 关键字: ASML, 阿斯麦, High-NA EUV
去年末,ASML向英特尔交付了业界首台High-NA EUV光刻机。新设备的体积非常巨大,需要使用13个集装箱和250个板条箱来进行运输,将从荷兰的费尔德霍芬运送到美国俄勒冈州希尔斯伯勒的英特尔半导体技术研发基地,另外还需要250名工程师并花费6个月完成安装。
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ASML回击High-NA光刻机过于昂贵的指责,称新技术是最具成本效益的解决方案
吕嘉俭 发布于2024-02-01 14:36 / 关键字: ASML, 阿斯麦, High-NA EUV
去年末,ASML向英特尔交付了业界首台High-NA EUV光刻机,从荷兰的费尔德霍芬运送到美国俄勒冈州希尔斯伯勒的英特尔半导体技术研发基地,并在接下来的几个月内完成安装。据了解,每台High-NA EUV光刻机的成本约在3到4亿美元。
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ASML公布2023Q4及全年财报:表现略高于预期,订单积压量减少
吕嘉俭 发布于2024-01-24 20:25 / 关键字: 阿斯麦, ASML, EUV, 光刻机
今天,ASML(阿斯麦)公布了2023年第四季度和全年财报。
在2023年第四季度中,净销售额为72亿欧元(约合人民币561.98亿元),毛利率为51.4%,净利润为20亿欧元(约合人民币156.11亿元),整体表现略高于ASML预期。在2023年第四季度里,净预定量为92亿(约合人民币718.09亿元)欧元,其中56亿欧元(约合人民币437.1亿元)自于EUV系统。在该季度里,ASML没有根据2022-2025年股票回购计划购买任何股票。在该季度里,ASML向客户交付了业界首台High-NA EUV光刻机。
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ASML向英特尔交付首台High-NA EUV光刻机,售价可能达到4亿美元
吕嘉俭 发布于2023-12-22 09:08 / 关键字: ASML, 阿斯麦, Intel, 英特尔, High-NA EUV
2022年初,ASML宣布与英特尔的长期合作进入了新的阶段,双方将携手推进半导体光刻前沿技术。英特尔也向ASML发出了购买业界首个TWINSCAN EXE:5200系统的订单,这是具有高数值孔径(High-NA)和每小时生产超过200片晶圆的极紫外光(EUV)大批量生产系统,为双方长期的High-NA EUV技术合作搭建框架。
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三星与ASML达成协议:获得High-NA EUV光刻设备技术的优先权
吕嘉俭 发布于2023-12-20 11:19 / 关键字: ASML, 阿斯麦, Samsung, 三星, High-NA EUV
近年来,ASML站到了世界半导体技术的中心位置。目前ASML有序地执行其路线图,在EUV之后是High-NA EUV技术,ASML正在为客户交付首台High-NA EUV光刻机做准备,预计会在未来几个月内交付。
数周前,三星电子会长前往荷兰,与ASML讨论了几项半导体业务。据Sammobile报道,三星已在上周与ASML签署了一项价值1万亿韩元(约合7.7亿美元/人民币54.9亿元)的协议,双方将在韩国京畿道东滩投资建设半导体芯片研究设施,并在那里共同努力改进EUV光刻制造技术。
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ASML将任命新的总裁兼首席执行官:明年Christophe Fouquet接掌光刻巨头
吕嘉俭 发布于2023-11-30 16:58 / 关键字: 阿斯麦, ASML
首席执行官Peter Wennink和首席技术官Martin van den Brink都将在明年退休,ASML(阿斯麦)需要新的领导者。目前ASML已发布公告,提名Christophe Fouquet成为新的总裁兼首席执行官,目前还要等待股东的批准,预计会在2024年4月24日举行的下一次ASML股东大会后正式接任。
Christophe Fouquet是ASML现任首席商务官(CBO),在ASML工作了15年,主要专注于ASML的技术、产品和客户。在其职业生涯中,开始于DUV业务,随后领导ASML应用业务和EUV业务,近年来几乎负责了ASML所有的业务。
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ASML公布2023Q3财报:营收符合预期,明年属于过渡年份
吕嘉俭 发布于2023-10-18 14:32 / 关键字: 阿斯麦, ASML, EUV, 光刻机, DUV
ASML(阿斯麦)公布了2023年第三季度财报,显示该季度中净销售额为67亿欧元(约合人民币518.55亿元),毛利率为51.9%,净利润为19亿欧元(约合人民币147.05亿元)。
在2023年第三季度,净预定量为26亿(约合人民币201.23亿元)欧元,其中5亿欧元(约合人民币38.7亿元)自于EUV系统。在该季度里,ASML根据现行的2022-2025年股票回购计划购买了价值约1亿欧元的股票。此外,中期股息为每股普通股1.45欧元(约合人民币11.22元),将于2023年11月10日支付。
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受3nm需求低迷影响,ASML明年EUV光刻机出货量或下跌30%
吕嘉俭 发布于2023-09-28 16:24 / 关键字: 阿斯麦, ASML, EUV, 光刻机
如果要推进到7nm以下的先进制程工艺,ASML(阿斯麦)的EUV(极紫外光)光刻机可以说是必不可少的制造工具。为此在过去几年里,与EUV相关的设备成为了众多半导体制造商争抢的对象,一直处于供不应求的状态,为此ASML还提高了产量。如果要购买一台EUV光刻机,往往还需要提前数月预订。
对于EUV光刻机的运用最为成熟的当属台积电(TSMC),这也是其领先于其他竞争对手的关键,目前已推进到3nm制程节点,苹果也在刚刚上市的iPhone 15 Pro系列机型上采用了3nm工艺制造的A17 Pro芯片,不过这并没有带动3nm需求上升。据Wccftech报道,由于苹果即将到来的新款iPad和MacBook Pro等产品的需求下降,加上高通因华为新机型导致3nm芯片订单减少、三星3nm GAA和英特尔20A工艺需求不如预期,预计2024年市场对3nm产能的需求也会随之下降。
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台积电要求供应商推迟交付设备,其中包括ASML
吕嘉俭 发布于2023-09-16 10:06 / 关键字: 台积电, TSMC, 阿斯麦, ASML, 光刻机
过去一段时间里,台积电(TSMC)的营收受到了全球整体经济不景气、终端市场需求减弱、以及客户不断进行库存调整的影响。虽然台积电在全球多处有新建晶圆厂的工程,不过随着产能需求减弱,最终还是选择削减了资本支出的预算,减缓了部分项目的进度。
据相关媒体报道,台积电已要求其主要芯片制造工具供应商推迟交付晶圆厂所需要的设备,原因是客户需求存在不确定性,以及位于美国亚利桑那州的在建晶圆厂Fab21的工程面临延期。这些供应商中包括了ASML(阿斯麦),合理推测台积电打算延后接收光刻设备,这也是晶圆厂里最昂贵的工具之一。
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ASML公布2023Q2财报:DUV光刻设备订单量激增
吕嘉俭 发布于2023-07-20 14:47 / 关键字: 阿斯麦, ASML, EUV, 光刻机, DUV
ASML(阿斯麦)公布了2023年第二季度财报,显示该季度中净销售额为69亿欧元(约合人民币555.73亿元),毛利率为51.3%,净利润为19亿欧元(约合人民币153.03亿元)。
在2023年第二季度,净预定量为45亿(约合人民币362.44亿元)欧元,其中16亿欧元(约合人民币128.87亿元)自于EUV系统。在该季度里,ASML根据现行的2022-2025年股票回购计划购买了价值约5亿欧元的股票。此外,中期股息为每股普通股1.45欧元(约合人民币11.68元),将于2023年8月10日支付。
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EUV设备热度降低,传ASML首度遭遇砍单
吕嘉俭 发布于2023-04-17 11:39 / 关键字: ASML, 阿斯麦, 台积电, TSMC, EUV
如果有关心半导体工艺方面的信息,相信对EUV(极紫外光)并不会感到陌生,如果要推进到7nm或更先进的工艺制程,可以说ASML(阿斯麦)的EUV设备是必不可少的工具。在过去几年里,EUV设备成为了众多半导体制造商争抢的对象,一直处于供不应求的状态,为此ASML还提高了产量。
根据ASML去年公布的计划,2025年至2026年的年产能将提高到90台EUV(极紫外光)光刻系统和600台DUV(深紫外光)光刻系统,同时2027年至2028年High-NA EUV系统的产能也将提高到20台。
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英伟达牵手台积电等合作伙伴:将AI技术导入2nm工艺,让计算光刻加速40倍
吕嘉俭 发布于2023-03-22 16:02 / 关键字: 英伟达, NVIDIA, 台积电, TSMC, 阿斯麦, ASML, 新思科技, Synopsys, cuLitho
英伟达在GTC 2023上宣布,将与台积电(TSMC)、阿斯麦(ASML)和新思科技(Synopsys)三大半导体行业巨头合作,将加速运算技术引入到计算光刻领域,加速下一代芯片的设计和制造,并推出名为“cuLitho”的计算光刻库。
计算光刻主要通过软件对整个光刻过程进行建模和仿真,使用光掩模文件的数学预处理来调整光学光刻中的像差和效果,以优化光源形状和光罩形状,减小光刻成像与芯片设计差距,从而使光刻效果达到预期状态,从而提高良品率。不过随着芯片的制造工艺向3nm及以下发展,每个光罩的负担呈指数级增长,使得芯片制造的难度加大。
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