• ASML、IMEC联合研发第二代EUV光刻机,3nm工艺的救星?

    孟宪瑞 发布于2018-10-30 10:24 / 关键字: IMEC, EUV, ASML, 光刻机, 物镜

    随着三星宣布7nm EUV工艺的量产,2018年EUV光刻工艺终于商业化了,这是EUV工艺研发三十年来的一个里程碑。不过EUV工艺要想大规模量产还有很多技术挑战,目前的光源功率以及晶圆产能输出还没有达到理想状态,EUV工艺还有很长的路要走。在现有的EUV之外,ASML与IMEC比利时微电子中心还达成了新的合作协议,双方将共同研发新一代EUV光刻机,NA数值孔径从现有的0.33提高到0.5,可以进一步提升光刻工艺的微缩水平,制造出更小的晶体管。

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  • 三星、SK Hynix研发EUV工艺的DRAM芯片,内存成本更低

    孟宪瑞 发布于2018-10-24 09:56 / 关键字: 三星, SK Hynix, EUV, DRAM, 内存芯片

    与台积电在7nm节点抢先完成布局不同,三星在7nm节点要慢了一些,上周才宣布了7nm EUV工艺正式量产,很大一个原因就是三星在7nm节点上直接上了EUV光刻工艺,没有使用过渡工艺,这要比英特尔、台积电都激进得多。除了逻辑工艺升级到EUV工艺,三星在未来的1Ynm工艺的DRAM内存芯片生产上也在研究EUV工艺,而他们也不是唯一的一家,SK Hynix也被曝研发EUV工艺的DRAM芯片,只有美光在这方面比较保守。

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  • ASML明年将出货30台EUV光刻机,新一代EUV光刻机产能提升24%

    孟宪瑞 发布于2018-10-18 13:13 / 关键字: ASML, EUV, 光刻机, 产能, 三星,台积电

    台积电前不久试产了7nm EUV工艺,预计明年大规模量产,三星今天宣布量产7nm EUV工艺,这意味着EUV工艺就要正式商业化了,而全球最大的光刻机公司荷兰ASML为这一天可是拼了20多年。ASML公司日前发布2018年Q3季度财报,当季营收27.8亿欧元,净利润6.8亿欧元,出货了5台EUV光刻机,全年预计出货18台,明年将增长到30台,而且明年下半年会推出新一代的NXE:3400C型光刻机,生产能力从现在的每小时125晶圆提升到155片晶圆以上,意味着产能提升24%。

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  • 三星:明年推5/4nm EUV工艺,2020年上马3nm GAA工艺

    孟宪瑞 发布于2018-09-05 14:43 / 关键字: 三星, 制程工艺, 7nm, 3nm, EUV, GAA

    随着Globalfoundries以及联电退出先进半导体工艺研发、投资,全球有能力研发7nm及以下工艺的半导体公司就只剩下英特尔、台积电及三星了,不过英特尔可以排除在代工厂之外,其他无晶圆公司可选的只有三星以及台积电了,其中台积电在7nm节点可以说大获全胜,流片的7nm芯片有50+多款。三星近年来也把代工业务当作重点,此前豪言要争取25%的代工市场,今年三星公布了未来的制程工艺路线图,现在日本的技术论坛上三星再次刷新了半导体工艺路线图,今年会推出7nm EUV工艺,明年有5/4nm EUV工艺,2020年则会推出3nm EUV工艺,同时晶体管类型也会从FinFET转向GAA结构。

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  • 英特尔不仅10nm延期,EUV光刻工艺也要落后三星、台积电两年

    孟宪瑞 发布于2018-09-03 15:46 / 关键字: 英特尔, EUV, 7nm, 10nm, 半导体工艺, 台积电

    随着Globalfoundries公司无限期退出7nm及以下工艺研发,全球有能力研发先进工艺的只剩下英特尔、台积电及三星,其中英特尔公司是过去几十年中半导体工艺最强大的公司,但是现在他们的10nm工艺都延期到明年底,台积电、三星的7nm已经或者即将量产。英特尔在制程工艺上的延期不只是影响10nm及未来的7nm工艺,更重要的是英特尔使用EUV光刻工艺也面临不确定性,分析称2021年底英特尔都不太可能用上EUV工艺,而台积电、三星明年的7nm改进版工艺就会用上EUV工艺。

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  • (更新)迫于美国政府压力,光刻机巨头ASML被曝不再招收中国人 ...

    孟宪瑞 发布于2018-08-22 10:24 / 关键字: ASML, 光刻机, euv, 美国

    在光刻机领域,荷兰ASML公司几乎垄断了全球高端光刻机市场,在EUV光刻机中更是独一份,7nm及以后的工艺都要依赖EUV光刻机。在高科技领域,美国这一年来加强了对中国人的防范,不只限于美国本土,就连欧洲公司也受到了美国政府的压力,荷兰ASML被曝禁止招收中国籍员工。

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  • 超能课堂(145):单价1.2亿美元的光刻机,全球只有一家公司生产 ...

    孟宪瑞 发布于2018-07-19 17:58 / 关键字: 超能课堂, 光刻机, ASML, EUV, 半导体, 芯片制造

    在中国与美国的贸易冲突中,半导体领域是其中的一个重点,它是《中国制造2025》路线图中第一个要解决的高科技领域,也是中国制造业目前的薄弱之处,在半导体设计、制造到封装三个环节中,半导体制造是国内急需突破的领域,但它也是技术门槛最高的,国内最大的半导体制造公司中芯国际的营收只有第一大晶圆代工公司台积电的1/10,与英特尔相比更是只有后者1/20,但是这些芯片制造公司都离不开一个设备——光刻机,它是整个半导体制造行业的明珠。

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  • 全球光刻机一哥ASML Q2出货4台EUV光刻机,大陆营收占比19%

    孟宪瑞 发布于2018-07-18 18:06 / 关键字: 光刻机, EUV, ASML, 三星, 台积电

    光刻机,是半导体芯片生产中最重要的设备之一,荷兰ASML公司已经成为全球光刻机市场的一哥,垄断了高端光科技生产,在EUV光刻机领域更是独一份。该公司日前发布了Q2季度财报,当季营收27.4亿欧元,同比增长19.9%。Q2季度ASML出货了4台EUV光刻机,当季营收中来自大陆市场的比例达到了19%,与美国市场持平,低于韩国市场。

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  • 三星7nm LPP工艺来了,全球首发EUV光刻工艺

    孟宪瑞 发布于2018-06-14 16:12 / 关键字: 三星, 7nm LPP, EUV, 制程工艺

    这两年为三星半导体业务立功最大的是存储芯片部门,贡献的营收、利润达到七八成,而三星的晶圆代工业务虽然有高通这样的VIP客户,但在7nm节点上高通会转投回台积电,三星要想拉拢到更多的客户,只能从工艺技术上着手了。这也是三星为什么跳过非EUV工艺的7nm工艺,直接上7nm LPP EUV工艺的原因,如今他们的7nm LPP工艺已经完成了Synopsys的物理认证,意味着7nm EUV工艺全球首发了。

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  • 美光:下一代1Y nm工艺DRAM正在验证中,暂不需要EUV光刻

    孟宪瑞 发布于2018-06-04 15:21 / 关键字: 美光, EUV, DRAM, 制造工艺, 光刻, 1Y nm

    今年台积电、三星及Globalfoundries等公司都会量产7nm工艺,第一代7nm工艺将使用传统的DUV光刻工艺,二代7nm才会上EUV光刻工艺,预计明年量产。那么存储芯片行业何时会用上EUV工艺?在美光看来,EUV光刻工艺并不是DRAM芯片必须的,未来几年内都用不上,在新一代工艺上他们正在交由客户验证1Y nm内存芯片,未来还有1Z、1α及1β工艺。

    内存行业在未来几年都不需要EUV光刻机

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  • 单价1.2亿美元,中芯国际的EUV光刻机明年交付:国产7nm有戏了 ...

    孟宪瑞 发布于2018-05-16 10:51 / 关键字: EUV, 光刻机, ASML, 中芯国际, 7nm

    今年英特尔、台积电、三星、Globalfoundries等半导体公司的制程工艺已经进化到了10nm、7nm节点,国产最先进的工艺依然是28nm工艺,差距在三代以上。国内半导体工艺为什么发展不起来?很多人会说中国缺少先进的光刻机,特别是EUV光刻机,而不能引进的缘由是美国欧盟禁售EUV给中国。这实际上也是一个流传多年的谣言了,EUV光刻机很快就要进入中国了,日媒报道称中芯国际已经向ASML订购了一台EUV光刻机,单价1.2亿美元,预计明年初交付。

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  • 英特尔7200万美元投资新兴公司,押注未来2nm工艺

    孟宪瑞 发布于2018-05-09 14:38 / 关键字: 英特尔, 风投, 2nm, EUV, 光刻

    英特尔公司目前正在为10nm工艺的难产而头疼,未来一年的主力工艺还将是14nm的各种改良版,而竞争对手台积电、三星已经开始量产7nm工艺。英特尔是摩尔定律的提出者,也是该定律最坚定的支持者,现在需要拿出点真材实料了,他们日前向12家新兴公司投资了7200万美元,其中一家公司将在未来三年解决EUV光刻工艺的光源问题,制程工艺因此可能微缩至2nm水平。

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  • 每次半导体制程技术的升级,难度都远非我们能想象

    Origin 发布于2017-11-17 11:05 / 关键字: EUV, 10nm, 7nm, 3nm

    随着闸极越做越小,制程线宽不断升级,由10年前的90nm,65nm一直升级到现在的14/16nm,10nm甚至7nm,摩尔定律都在有条不紊着指挥半导体行业前进的路线。但是随着源极和汲极之间的距离越来越短,半导体工艺的极限逐渐显露出来。大多数人都发现了,升级到10nm和7nm所遇到的困难不是捂个被子睡个觉醒来就能解决的,因为除了技术原因还有诸多逐渐浮现出来的不可控因素。

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  • 三星宣布推出EUV技术制程工艺,明年开始投产

    Origin 发布于2017-09-11 19:48 / 关键字: 三星, EUV, 7nm, 11nm

    荷兰ASML公司制造的EUV光刻机是所有半导体厂商梦寐以求的抢手货,但制造难度极高的EUV(极紫外)光刻机在据说今年内的年产量只有12台,也就是1个月只有1台能出售给半导体厂商。不过三星始终是三星,在半导体领域的影响力确实是大,今天三星就宣布推出采用EUV技术的11nm LPP和7nm LPP工艺,他们的半导体路线图又向前迈进了一步。

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  • EUV光刻机供不应求,ASML公司收入增长25%

    Origin 发布于2017-07-20 17:26 / 关键字: EUV, 光刻机

    目前三星和TSMC等半导体生产商的EUV极端紫外线光刻机均采购自荷兰的ASML公司,作为光刻机的龙头老大荷兰ASML占据着高达80%的市场份额,垄断了高端光刻机的市场,尼康也不是ASML的对手。Intel,TSMC,三星等公司用来制造14/16nm芯片的光刻机都是从ASML公司那买来的,正因为此,ASML的收入在今年增长了25%。

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