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关于 上海微电子 的消息

国内28nm光刻机有望明年出货,离半导体自给自足又近了一步

中国本身有一些相当有竞争力的半导体生产商,但这些公司都使用在其他国家开发和制造的生产设备,如日本、荷兰和美国。

TomsHardware报道,上海微电子设备公司(SMEE)有望在2021年第四季度之前交付其第二代深紫外(DUV)光刻机。该设备可以使用28nm工艺技术生产芯片,依靠的是国内和日本生产的组件,并不依赖美国的任何制造设备和技术。在现阶段中美贸易战持续进行的情况下,这一点越来越重要。

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