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关于 光刻机 的消息

台积电或斥资1万亿新台币新建2nm工厂,传三星将抢购更多EUV光刻机

近期台积电(TSMC)的2nm工艺开发似乎也逐渐走上了正规,有媒体报道指,台积电计划斥资1万亿新台币(约合人民币2261亿元),建造一座新的晶圆厂,专门负责2nm芯片的生产,地点位于中国台湾台中市。

英特尔Fab 34晶圆厂迎来首台EUV光刻机,为未来生产7nm芯片做准备

在今年1月份,一台光刻胶显影设备飞越大西洋运抵工厂,完成了英特尔Fab 34晶圆厂的首台设备的安装工作,未来将与EUV扫描仪一起运行。上周,英特尔位于爱尔兰的Fab 34晶圆厂完成了第一台EUV光刻机的安装,这是欧洲首个具备EUV工艺的晶圆厂。

光刻机或成为芯片产量提升的主要瓶颈,ASML表示产能需提高50%才能满足市场

近两年来,芯片短缺成为了热门话题。由于半导体供应链上的短缺,全球各大半导体制造商都投入了庞大的资金用于产能的扩张。这也衍生出另外一个问题,即用于提高产能的半导体生产工具产量是否能满足需求。

上海微电子交付国内首台2.5D/3D先进封装光刻机,将应用于高密度异构集成领域

在去年9月份,上海微电子(SMEE)举行了新产品发布会,宣布推出新一代大视场高分辨率先进封装光刻机,并表示与多家客户达成销售协议。时隔数月后,上海证券报/中国证券网报道称,上海微电子已于昨天向客户交付国内首台2.5D/3D先进封装光刻机,代表了行业同类产品的最高水平。

中芯国际与ASML签订12亿美元订单,除了EUV光刻机其他都能买

2021年3月3日晚上,中芯国际(SMIC)在港交所发表公告称,2021年2月1日已经与阿斯麦(ASML)上海签订了经修订和重述的阿斯麦批量采购协议,采购协议的期限从原来的2018年1月1日至2020年12月31日延长至从2018年1月1日至2021年12月31日。公告显示该订单的总价约为12亿美元,中芯国际将在发出订单后先首期付款30%,余款在产品收到后支付。

国内28nm光刻机有望明年出货,离半导体自给自足又近了一步

中国本身有一些相当有竞争力的半导体生产商,但这些公司都使用在其他国家开发和制造的生产设备,如日本、荷兰和美国。

TomsHardware报道,上海微电子设备公司(SMEE)有望在2021年第四季度之前交付其第二代深紫外(DUV)光刻机。该设备可以使用28nm工艺技术生产芯片,依靠的是国内和日本生产的组件,并不依赖美国的任何制造设备和技术。在现阶段中美贸易战持续进行的情况下,这一点越来越重要。

台积电大规模购买EUV光刻机,以提高产能保持业界领先地位

TOMSHARDWARE报道,台积电表示其部署的极紫外光(EUV)光刻工具已占全球安装和运行总量的50%左右,这意味着其使用的EUV机器数量超过了业内其他任何一家公司。为了保持领先,台积电已经下单订购了至少13台ASML的Twinscan NXE EUV光刻机,将会在2021年全年交付,不过具体的交付和安装时间表尚不清楚。同时,明年台积电实际需求的数量可能是高达16到17台EUV光刻机。

台积电拥有着世界上一半的EUV光刻机,承包了全球EUV晶圆产能的60%

在本周的技术研讨会上,台积电对他们在制程和封装工艺等技术的最新进展做出讲解,公布了5nm制程工艺和3nm制程工艺的一些消息。根据台积电公布的消息,台积电的N5工艺使用了第二代DUV+EUV光刻技术,是N7之后的一个完整节点,相比起N7,它在同性能下能够节省30%的能耗,在同能耗下能够实现15%的性能提升,逻辑电路密度是N7的1.8倍。

超能课堂(217):什么是EUV光刻机?为什么大家都在追求它?

近些年来EUV光刻这个词大家应该听得越来越多,三星在去年发布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工艺打造的芯片,台积电的7nm+也是他们首次使用EUV光刻的工艺,苹果的A13和华为麒麟990用的就是这工艺,Intel也打算在他们的7nm节点上切入到EUV工艺,为什么这些半导体巨头们都在追捧EUV工艺呢?

ASML第二季度销售额达到26亿欧元,新款光刻机DRAM芯片产量更高

ASML在昨天公布了今年第二季度财报,当季度销售额达到了26亿欧元,毛利率为43%,净利润为4.76亿欧元。由于EUV光刻机的推动,这个季度ASML签订了10个新订单,其中逻辑芯片生产设备订单占67%,其余的部分则是来源于存储芯片生产设备,这也说明了逻辑芯片的强烈需求。同时在电话会议中,ASML再次强调了其最新一代的EUV光刻机NXE:3400C,在工厂生产条件下每天可以生产超过2000片晶圆。

ASML发布Q1季度财报:营收22.3亿欧元,EUV光刻机下半年产能大增 ...

荷兰ASML公司今天发布了2019年Q1季度财报,当季营收22.3亿欧元,毛利率41.6%,净利润3.55亿欧元。Q1季度中ASML公司出货了4台EUV光刻机,比前一个季度少了1台,不过好消息是ASML下半年会推出新一代EUV光刻机NXE:3400C,这款光刻机的产能将从每小时125片晶圆提升到170片每小时,意味着半导体制造厂的EUV产能会大幅增加,这对三星、台积电来说是个好消息。

ASML去年出货18台EUV光刻机,中国市场需求依然强劲

就像提到国产飞机必有人提中国发动机不行一样,提到半导体也有人一直在提中国光刻机不行的问题,而全球的光刻机目前垄断在几家公司手中,其中荷兰ASML是目前最主要的光刻机供应商,EUV光刻机更是全球独一份。日前ASML公司发表了2018年Q4及全年财报,全年营收109亿欧元,净利润26亿欧元,EUV光刻机出货18台。来自中国的营收占到了ASML的18%,尽管全球半导体行业2019年遇冷,三星、SK Hynix等存储芯片公司要削减投资,但ASML表示来自中国的出口需求还很强劲,对2019年的业绩有信心。

ASML供应商突遭火灾,明年初的EUV光刻机交货将延期

最近中科院研发成功紫外超分辨光刻机的消息刷屏了,使用365nm波长就能实现单次曝光最高线宽分辨力达到22nm,这个技术水平在光刻机中是很了不起的,做到了SP表面等离子体超衍射光刻机的极致,而且价格只有1000-2000万元,不过中科院的SP光刻机并不能取代ASML的光刻机,二者的用途并不一样,晶圆厂制造半导体芯片依然离不开ASML的光刻机。今天台积电、三星等公司要心惊一下了,因为ASML光刻机交货遇到问题了,ASML元件供应商Prodrive突遭大火,导致部分生产线及库存被毁,将影响2019年初ASML光刻机的交付日期,不过今年内的ASML光刻机交付不受影响。

中国把超分辨光刻机卖出白菜价,仅为ASML EVU光刻机价格2%

昨天中科院光电所研发成功的紫外超分辨光刻机在各大媒体上刷屏了,它打破了传统光学光刻分辨力受限于光源波长及镜头数值孔径的传统路线格局,使用365nm波长就能实现单次曝光最高线宽分辨力达到22nm。除了技术水平之外,中科院的这套光刻机价格非常低廉,项目副总设计师胡松表示其售价会在1000万到2000万元之间,这价格在光刻机中真的是白菜价了,ASML的193nm光刻机售价在7000万美元以上,EUV光刻机售价在1亿欧元以上,国内的光刻机价格仅为EUV光刻机价格2%,不过双方的技术体系也是不同的,国产光刻机现在还取代不了ASML的光刻机。

我国研发分辨力最高的紫外超分辨光刻机,可生产10nm以下工艺 ...

国内的半导体芯片对进口依赖非常高,特别是高端的内存、闪存、处理器等芯片,国内的技术落后,还不能完全国产替代。国内半导体在制造领域是落后最多的,很多人都知道光刻机在芯片生产中的的重要性,荷兰ASML公司目前垄断了高端光刻机的研发、生产。昨天中科院发布消息,中国科学院光电技术研究所承担的国家重大科研装备——超分辨光刻装备项目通过验收,这个项目最主要的成果就是中国科学家研发成功世界首台分辨力最高的紫外超分辨光刻机,365nm波长即可生产22nm工艺芯片,通过多重曝光等手段可以实现10nm以下的芯片生产。

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