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关于 10nm级 的消息

SK海力士准备1cnm DRAM:第六代10nm级别工艺,计划2024Q3量产

去年,SK海力士宣布已经完成了现有DRAM中最为微细化的1β (b) nm(第五代10nm级别)的技术研发,并进入了英特尔数据中心的存储器产品兼容性验证。其采用了HKMG(High-K Metal Gate)工艺,相比1αnm(第四代10nm级别)工艺的产品,功耗降低了20%。

DRAM厂商正在评估采用EUV技术,主要是为了降低单位生产成本

半导体元件的制造,制程越小越困难,所面临的物理限制越来越高,现在能量产的工艺节点已经来到7nm,往后制程的升级越来越困难,所以催生出了EUV光刻技术,比如在同样是7nm制程的情况下,可将晶体管密度提升,同频率下功耗降低,不过EUV光刻技术还有一个优点就是有助于降低单位生产成本。现在,DRAM厂商在面对DRAM价格不断下跌的困境下,已经在考虑导入EUV技术用于制造DRAM,主要目的是为了降低成本。

三星首发1znm的8Gb DDR4 DRAM:生产效率提升20%,下半年量产

全球DRAM内存市场主要由三星、SK Hynix及美光三家统治,他们的产能占了全球市场份额95%以上,其中三星一家就能占据全球45%以上的份额,是绝对的王者。在技术上,不久前三星首发了12GB LPDDR4X内存,使用的是二代10nm级工艺也就是1ynm工艺制造,现在它基于第三代10nm级工艺也就是1znm工艺制造的DDR4 DRAM内存也来了。

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