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  • 拼 命 加 载 中 ...   Intel前几日的IDF会议上表示其14nm工艺进展顺利,预计明年底就会开始应用,2014年大规模量产。另一大晶圆厂商GlobalFoundries也不甘示弱,今天宣布在14nm工艺节点新增XM 3D晶体管工艺,同样在2014年量产。

      据BSN报道,14nm-XM工艺具体名为XM PDK(eXtreme Mobility Process Development Kit,超级移动工艺开发套件),同样支持FinFET薄膜晶体管工艺,也就是我们常说的3D晶体管工艺。该工艺预期在2013年早些时候流片,2014年将在GF位于纽约Malta的Fab 8晶圆厂开始量产。


     

      以往的工艺升级间隔为2年,14nm-XM工艺与2013年量产的20nm工艺间隔只有一年,这明显是针对Intel同期发布的14nm Broadwell处理器而来。

      另外,该工艺将使用14nm的3D晶体管,并混合现有20nm工艺的部分特点。GF公司CTO Gregg Bartlett声称“我们研发FinFET工艺已经超过10年,因此对于引领FinFET工艺的早日量产我们非常自信,就像我们之前在HKMG工艺上的领先一样”。

      GF称他们的14nm FinFET工艺的晶体管间距48nm,这与Intel的14nm 3D晶体管是一样的,其他方面的参数及功能也与Intel同期工艺相近或者是一致的,这意味着2014年的SOC芯片竞争会很有趣。

      GF公司全球市场与销售部门的执行副总Mike Noonan表示“我们的目标是给用户带来与Intel一样的功耗和性能。”。GF的14nm-XM工艺虽然使用了14nm的FinFET晶体管,但是PDK工艺的风险与20nm工艺没有区别,换句话就是这代工艺有14nm工艺的优点,但是主要基础来源于20nm,用户的制程转换会很容易。


    XM工艺优势:同样的电压下20-55%的性能提升


    优势二:电池续航时间提升40-60%

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    • 游客  2015-11-28 23:43

      游客

      该评论年代久远,荒废失修,暂不可见。
      2014-04-18 18:45
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      14#

    • 游客  2014-04-18 18:45

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    • 超能网友博士 2012-09-22 02:00    |  加入黑名单

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    • 游客  2012-09-21 20:33

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    • 游客  2012-09-21 20:31

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    • 游客  2012-09-21 18:24

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    • 游客  2012-09-21 13:56

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    • 游客  2012-09-21 12:57

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      2#

    • 游客  2012-09-21 12:24

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      1#

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