今年的旧金山IDF会议上,Intel谈论最多的是Broadwell和Skylake处理器,这两代都是14nm工艺的,再往后就是10nm以及7nm工艺了,这两种工艺还在研究、探索中,他们需要更高级的制造设备,EUV(极紫外光光刻设备)就是关键之一,不过EUV现在还不成熟,Intel表示就算没有EUV设备,他们也懂得如何用10nm、7nm工艺制造未来的芯片。
Intel理事Mark Bohr在回答工艺相关的问题时表示,他的日常工作之一就是研究在没有EUV光刻的情况下如何制造7nm芯片。对于EUV光刻这种核心设备,乐观的看法也是10年内也不一定能升级,Intel在10nm节点不会使用EUV工艺,7nm节点也不一定会,不过这时候还是有点希望的。
Bohr表示他对EUV工艺很感兴趣,它可以帮助厂商提高产能,而且可能简化工艺,不幸的是EUV工艺还没有准备好,生产能力及可靠性都没有达标。
至于如何在没有EUV工艺的情况下制造10nm及7nm芯片,Intel就没有透露太多了,不过在14nm工艺上,Intel已经使用了三重曝光(triple patterning)工艺了。
游客 2014-09-16 11:28
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超能网友研究生 2014-09-13 15:53 | 加入黑名单
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游客 2014-09-13 14:35
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游客 2014-09-13 05:42
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游客 2014-09-12 16:12
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游客 2014-09-12 15:22
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游客 2014-09-12 12:01
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游客 2014-09-12 11:30
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游客 2014-09-12 10:50
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游客 2014-09-12 10:26
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游客 2014-09-12 09:57
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游客 2014-09-12 09:43
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游客 2014-09-12 09:40
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