Arm在其Arm Blueprint博客上发表了一篇新文章，认为计算模式正在发生变化，每瓦性能将是新的摩尔定律，成为设计的驱动目标。Arm的研究员兼技术总监Rob Aitken写了一篇文章，对整个行业和发展方向进行了回顾。
在过去，大家已经看到了晶体管密度的增长，在摩尔定律里，设备性能持续提高，这是非常真实的。直到几年前，设计人员开始遇到了困难。半导体工艺变得越来越小，当接近原子尺寸的时候，几乎不可能建立那么小的新节点。随之而来的是一些新的分析，去预测按照这样的道路能走多远。目前Arm正处于突破点，新的设计或者说正在开发的新IP，正在将一个重要因素纳入到这个过程里，就是计算效率和每瓦性能。
每瓦性能作为一种新规范，是因为更多的现代设计正在考虑将计算效率作为每一步改进的主要因素。随着设计越来越庞大和复杂，效率可能会降低。为了获得更好的设计，工程师们必须以某一个性能点为目标，同时尽可能地用更少的功率实现它。
优化工作负载以利用超低功耗处理这可以通过诸如TinyML之类的方式获得动力，其侧重于机器学习工作负载的优化，能够以毫瓦级的功率运行。在每瓦性能成为新的规范后，可以指导产品路线图，从功率范围内提取越来越多的性能。
不让匿名评论了研究生 2021-07-15 10:38 | 加入黑名单
算了吧，用7nm工艺，开关就是7nm大？macketing害人。
已有1次举报支持(0) | 反对(1) | 举报 | 回复
1#
提示：本页有 1 个评论因未通过审核而被隐藏