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    Clarkdale:首款32nm制程CPU

      英特尔的“Tick-Tock”战略众所周知,“制程技术-微架构”交替更新,比如说在2008年将CPU制程技术升级到了45nm,在2009年将微架构升级到了Nehalem,在2010年伊始,英特尔就非常精准地将制程提升到了32nm,Clarkdale乘此东风,成为首款采用32nm制程技术的处理器。

    Intel 首次在45nm制程中使用了High-K+Metal Gate技术,漏电情况大幅降低

      在45nm制程中,英特尔首次使用了High-K栅极介质和Metal Gate金属栅极,也就是“HK+MG”技术,使得晶体管漏电率大幅降低,具有非常出色的表现。

      英特尔在32nm制程中,将“HK+MG”技术发展到第二代,同时改用第四代Strained Silicon( 应变矽) 技术,用SiGe、Dual-Stress Strained Silicon( 双应力应变矽) 以及先进的应变记忆技术,能够有效提高晶体管的开关速度和电源效率,这样可以让处理器频率和功耗获益匪浅。

      32nm中的High-K等价氧化物厚度从45nm的1.0nm下降到0.9nm,Gate length(栅级长度)达到30nm,Gate Pitch(栅极间距)从160nm下降到只有112.5nm,也是有史以来最紧密的栅极间距。从性能上来看,与45nm制程相比,NMOS晶体管的漏电量减少5倍多,PMOS晶体管的漏电量则减少10倍以上,驱动电流也达到史上最高,晶体管整体性能提升22%,同比封装尺寸是45nm工艺产品的70%。

      Clarkdale的诞生,正式宣告了处理器制程工艺又向前迈进一大步。而且制程技术的提升,是微架构进步的基石,明年,基于32nm制程技术的Sandy Bridge新架构尤其令人期待。

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    • 游客  2010-02-16 15:34

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    • 游客  2010-01-15 12:21

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    • 游客  2010-01-14 19:23

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    • 游客  2010-01-14 13:32

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    • 游客  2010-01-14 12:18

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    • 超能网友管理员 2010-01-14 09:13    |  加入黑名单

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    • 游客  2010-01-13 21:17

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    • 超能网友教授 2010-01-13 20:58    |  加入黑名单

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    • 游客  2010-01-13 20:49

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    • 游客  2010-01-13 19:38

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    • 游客  2010-01-13 19:34

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    • 超能网友管理员 2010-01-13 18:16    |  加入黑名单

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    • 游客  2010-01-13 17:42

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    • 游客  2010-01-13 17:27

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