◆ Clarkdale：首款32nm制程CPU

　　英特尔的“Tick-Tock”战略众所周知，“制程技术-微架构”交替更新，比如说在2008年将CPU制程技术升级到了45nm，在2009年将微架构升级到了Nehalem，在2010年伊始，英特尔就非常精准地将制程提升到了32nm，Clarkdale乘此东风，成为首款采用32nm制程技术的处理器。

Intel 首次在45nm制程中使用了High-K+Metal Gate技术，漏电情况大幅降低

　　在45nm制程中，英特尔首次使用了High-K栅极介质和Metal Gate金属栅极，也就是“HK+MG”技术，使得晶体管漏电率大幅降低，具有非常出色的表现。

　　英特尔在32nm制程中，将“HK+MG”技术发展到第二代，同时改用第四代Strained Silicon( 应变矽) 技术，用SiGe、Dual-Stress Strained Silicon( 双应力应变矽) 以及先进的应变记忆技术，能够有效提高晶体管的开关速度和电源效率，这样可以让处理器频率和功耗获益匪浅。

　　32nm中的High-K等价氧化物厚度从45nm的1.0nm下降到0.9nm，Gate length（栅级长度）达到30nm，Gate Pitch（栅极间距）从160nm下降到只有112.5nm，也是有史以来最紧密的栅极间距。从性能上来看，与45nm制程相比，NMOS晶体管的漏电量减少5倍多，PMOS晶体管的漏电量则减少10倍以上，驱动电流也达到史上最高，晶体管整体性能提升22%，同比封装尺寸是45nm工艺产品的70%。

　　Clarkdale的诞生，正式宣告了处理器制程工艺又向前迈进一大步。而且制程技术的提升，是微架构进步的基石，明年，基于32nm制程技术的Sandy Bridge新架构尤其令人期待。