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关于 SK海力士 的消息

SK海力士推进龙仁半导体集群计划:投资约9.4万亿韩元建造首座Fab和业务设施

SK海力士宣布,已通过董事会决议,将投资约9.4万亿韩元(约合67.82亿美元/人民币491.62亿元)建设韩国龙仁半导体集群的首座厂房(Fab)和业务设施。SK海力士表示,通过龙仁半导体集群,一方面夯实了未来发展基础,并及时应对日益剧增的面向人工智能(AI)的半导体存储器需求,另一方面加强了韩国半导体产业竞争力,并为经济发展做出贡献。

SK海力士公布2024Q2财报:季度收入创历史新高,NAND闪存连续两季度盈利

近日,SK海力士(SK hynix)公布了截至2024年6月30日的2024财年第二季度财务报告,季度收入创历史新高,营业利润自2018年以来重回5万亿韩元水平。SK海力士称,时隔一个季度债务减少了4.3万亿韩元,将以稳定的财务结构为基础,巩固面向人工智能(AI)的存储器全球领先的地位。

明年HBM产量或实现翻倍:三星、SK海力士和美光都在努力提升产能

随着人工智能(AI)技术的快速发展,高带宽存储器(HBM)产品的销量也在节节攀升。由于HBM产品具备较高的附加值,使得三星、SK海力士和美光三大存储器制造商之间的竞争变得愈加激烈。虽然各个存储器供应商不断提升HBM的产能,但是仍然难以满足市场的需求,价格也是水涨船高。

SK海力士希望加强AI和芯片事业发展:未来三年将投资约746亿美元

目前SK海力士在高带宽内存(HBM)市场占据主动地位,同时也占据了约35%的DRAM市场份额。作为最大的存储器生产商之一,SK海力士希望可以投资当前科技发展的热门方向,进一步提升业内的竞争力。

SK海力士开发高性能PCB01 SSD:面向AI PC,支持PCIe5.0 x8接口

SK海力士宣布,已开发出用于端侧(On-Device)AI PC的业界最高性能SSD产品“PCB01”。端侧AI意思是备本身上实现AI运行,终端设备自行收集信息并进行计算,而非依赖物理分离的服务器完成,可提升AI功能的反应速度、加强用户定制性AI服务功能。

SK海力士5层堆叠3D DRAM良品率已达56.1%,具有与2D DRAM相似的特性

三星、SK海力士和美光是全球领先的三大存储器制造商,近期在存储领域的竞争变得愈发激烈。除了数据中心GPU所使用的HBM产品,以及即将到来的新一代游戏显卡采用的GDDR7,现在竞争还延伸到未来的3D DRAM领域。

三星和SK海力士将在3D DRAM应用混合键合技术,最快2025年引入新结构

三星和SK海力士是存储器领域的领导者,位列DRAM行业前两名,都已投入到3D DRAM商业化进程中,希望借此改变存储器行业的游戏规则。排在第三的美光从2019年起就开始了3D DRAM的研究,获得的专利数量是三星和SK海力士的两到三倍,这也迫使三星和SK海力士加快3D DRAM的开发。

SK海力士计划2025Q1量产GDDR7,晚于三星和美光

今年3月,JEDEC发布了JES239 Graphics Double Data Rate 7,即GDDR7标准,可提供两倍于GDDR6的带宽,以满足未来图形、游戏、计算、网络和人工智能应用对高内存带宽不断增长的需求。显然这也是为下一代显卡做好准备,传闻英伟达的GeForce RTX 50系列GPU将支持GDDR7。

SK海力士计划扩大存储市场布局,与HLDS共创Super Multi品牌

SK海力士是全球主要的半导体企业之一,也是存储器市场除了三星以外最大的制造商。与三星不同,SK海力士更多地关注存储芯片的生产,自家旗下的产品也主要以商用领域为主导,消费领域相对来说资源投入较少。不过近年来,SK海力士也开始在消费端发力,比如Platinum P41系列SSD就获得了不错的市场口碑。

SK海力士打算在1cnm DRAM上采用Inpria MOR光刻胶,三星也有同样的考虑

此前有报道称,SK海力士正在准备第六代10nm级别的1cnm工艺的DRAM产品,已经制定了对应的客户认证及生产计划,打算在2024年第三季度量产。相比于现有第五代10nm级别的1β (b) nm工艺,在同样采用EUV光刻技术的情况下,每片晶圆可生产更多数量的芯片,并实现更高的功率效率。

SK海力士希望进一步提升HBM4E性能:将集成计算和缓存功能

为应对用于人工智能(AI)的半导体需求的大幅度增长,SK海力士与台积电(TSMC)签署了谅解备忘录(MOU),双方就下一代HBM产品生产和加强整合HBM与逻辑层的先进封装技术密切合作,开发第六代HBM产品,也就是HBM4。随后SK海力士HBM先进技术团队负责人确认,将加快HBM代际更迭周期,从HBM3E开始,由以往的两年变成了一年,HBM4E最早会在2026年出现。

三星和SK海力士将停产DDR3,或带动价格上涨最高20%

过去两年多里,业界从DDR4内存向DDR5内存过渡,后者占据着越来越大的市场份额。此外,DDR3内存的市场需求量也进一步减少,更多地被DDR4和DDR5内存所取代。特别是过去一年多存储器市场经历低迷,供应商普遍减少了DDR3内存的生产,并借此机会降低了库存水平。

SK海力士加速推进HBM4E:最早或2026年完成开发

为应对用于人工智能(AI)的半导体需求的大幅度增长,此前SK海力士已决定扩充人工智能基础设施的核心产品,即HBM3E等新一代DRAM的生产能力。与此同时,SK海力士还与台积电(TSMC)签署了谅解备忘录(MOU),双方就下一代HBM产品生产和加强整合HBM与逻辑层的先进封装技术密切合作,开发第六代HBM产品,也就是HBM4。

SK海力士在研究低温蚀刻设备,下一代3D闪存可能在-70℃低温下生产

随着3D NAND的堆叠层数越来越多,厂家门也在着手研究新的生产技术以改进效率,SK海力士就在评估东京电子最新的低温蚀刻设备,该设备可以在-70℃的低温下运行,用来生成400层以上堆叠的新型3D NAND。低温蚀刻设备的钻孔速度是传统工具的三倍,对多层数的3D NAND非常有用。

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