英特尔宣布,已开始采用极紫外光刻(EUV)技术大规模量产(HVM)Intel 4制程节点。英特尔称,Intel 4工艺将应用于新一代产品,满足AI推动下“芯经济”指数级增长的算力需求,这次的按时量产证明了其正以强大执行力推进“四年五个制程节点”计划。
英特尔CEO帕特-基尔辛格(Pat Gelsinger)表示:“我为英特尔团队以及客户、供应商和合作伙伴感到骄傲,我们一起将Intel 4制程节点的大规模量产变为现实,在重获制程领先性的道路上稳步前进。”
在英特尔的“四年五个制程节点”的半导体工艺路线图里,Intel 7和Intel 4已实现大规模量产;Intel 3正在按计划推进,目标是2023年底;Intel 20A和Intel 18A进展顺利,目标是2024年,将采用RibbonFET全环绕栅极晶体管和PowerVia背面供电技术。此外,英特尔不久后将推出面向英特尔代工服务(IFS)客户的Intel 18A制程设计套件(PDK)。
作为英特尔首个采用极紫外光刻技术生产的制程节点,Intel 4可使用超短波长的光,改善良品率和面积微缩,从而实现高能效,还能应用EMIB和Foveros封装技术,相比之前的工艺,无论在性能、能效还是晶体管密度方面均实现了显著提升。
根据英特尔之前的介绍,与Intel 7相比,Intel 4实现了两倍的面积微缩,带来了高性能逻辑库,并引入了多个创新,包括引入EUV光刻技术,大幅简化了互连架构的制程工艺,同时还支持微缩,使得Intel 4中的掩码减少了20%,工艺步骤减少了5%;针对高性能计算应用进行了优化,可支持低电压(<0.65V)和高电压(高于1.1V)运行,相比Intel 7,Intel 4的ios功率性能提高了20%以上;另外高密度(金属-绝缘体-金属)电容器实现了卓越的供电性能。
razorzzh博士 2023-10-17 08:31 | 加入黑名单
支持(7) | 反对(2) | 举报 | 回复
5#
我匿名了 2023-10-17 03:59
支持(3) | 反对(4) | 举报 | 回复
4#
终结之谷瀑布教授 2023-10-16 13:57 | 加入黑名单
当年intel的工艺,同样的名称下远远领先其他代工厂,被人戏称intel的20nm比台积电的14nm还好
不知道啥时候开始,intel变了,intel4才引入EUV,然而台积电在7nm就引入了,更是准备明年的新工艺抛弃EUV。。
我真好奇,intel4到底能不能打过台积电N5
支持(5) | 反对(1) | 举报 | 回复
3#
bxhaai一代宗师 2023-10-16 13:31 | 加入黑名单
支持(5) | 反对(0) | 举报 | 回复
2#
zhaoyun980终极杀人王 2023-10-16 12:12 | 加入黑名单
Intel的工艺制程从15年到现在都没什么进步,还“稳步推进”。。。
已有2次举报支持(4) | 反对(7) | 举报 | 回复
1#
提示:本页有 5 个评论因未通过审核而被隐藏