关于 刻蚀机 的消息
国产5nm等离子刻蚀机通过台积电验证，用于全球首个5nm工艺
前段时间国内研发成功紫外超分辨SP光刻机的消息刷屏了，使用365nm波长就能实现单次曝光最高线宽分辨力达到22nm，它打破了传统光学光刻分辨力受限于光源波长及镜头数值孔径的传统路线格局，而且这套设备的价格只要1000-2000万元，不到EUV光刻机的2%。不过这套SP光刻机技术突破意义虽大，但并不能取代现有的光刻机，只适合特种工艺，不适合大规模量产。除了光刻机之外，半导体生产还需要其他设备，比如刻蚀机，国内的中微电子已经研发成功5nm等离子刻蚀机，并通过了台积电的认证，将用于全球首条5nm工艺。
