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    这两年在比如7nm等新工艺的研发上面逐渐停滞的GLOBALFOUNDRIES(以下简称GF)其实也并没有完全放弃继续改良它现有的工艺,在今天他们宣布为云端和边缘AI应用引入新的12LP+ FinFET工艺。

    GlobalFoundries_logo

    GF的12LP工艺其实是通过购买三星的授权而来的,之前的14LPP工艺同样也是。2018年8月27日,在TSMC的7nm工艺顺利进入量产之时,GF却宣布他们已经取消了7LP工艺的开发,原因是他们整体策略从追求业界领先的工艺转向了注重专用工艺。

    而今天宣布的12LP+工艺就体现了他们在战略上面的转变,GF在新闻稿的标题中就已经表明了12LP+工艺是为云端和边缘AI应用引入的,改良之后的工艺在同功耗下面的性能可以提升20%,在同性能的情况下减少40%的耗电量,改良幅度可以说是非常之大了,另外12LP+相比于原来的12LP工艺还可以提升15%的密度。所以三星的12nm工艺是有多烂

    GF的12LP+工艺的一大关键特征是其高速率低功耗的0.5V SRAM单元,它支持在处理器与内存之间进行快速并且节能的数据传输,这是计算和有线基础设施市场中,AI应用的一个重要需求。另外的亮点是这项工艺着重为AI计算电路设计进行了优化,并且他们和ARM进行了合作,在这项工艺上面运用了ARM专门为GF开发的ARM Artisan物理IP方案和专门用于AI应用的POP IP。

    目前该工艺已经可用,GF已经开始和部分客户合作了。试样预期将在2020下半年产出,2021年开始在纽约马耳他的Fab 8开始量产。

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    已有 2 条评论,每一条合规评论都是对我们的褒奖。
    • 游客 2019-09-25 10:49

      2021年量产是有点慢啊。

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      2#

    • 拾人牙慧教授 2019-09-25 10:43  加入黑名单

      之前说起诉台积电怎么样了?

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      1#

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