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    在半导体制造工艺上,Intel之前是绝大的老大,领先三星、TSMC、GlobalFoundries公司一两年(Intel自己的说法是领先友商三年半),但是在14nm工艺上,Intel的Tick-Tock钟摆战略失效,升级换代周期从2年延长到2.5年了,今年下半年的主力还是14nm工艺的Kabylake,10nm Cannonlake延期到了2017年Q3季度,但是这还不算完,7nm工艺可能还要晚一些,恐怕要等到2020年才能量产了,10nm工艺节点至少会有Cannonlake、Icelake、Tigerlake三代产品。

    在半导体工艺上,三星、TSMC这两家最为活跃,FinFET工艺之前他们比Intel的工艺落后一两代,但他们现在比Intel高调多了,TSMC昨天还宣称2018年量产7nm工艺,2020上半年就能量产5nm工艺,三星虽然没有TSMC这么“夸张”,不过去年底也制造出了10nm SRAM缓存,7nm也在路上了。

    半导体制造工艺非常依赖材料、电子、物理等基础科学,这都需要长时间的技术积淀,虽然不能完全排除三星、TSMC获得黑科技的可能性,但小编其实并不怎么相信三星和TSMC两家新工艺的进度,几无可能一两年内就在工艺研发上面超过Intel公司,而且实验室生产出新工艺跟大规模量产新工艺并不是一回事。

    再回到Intel上来,他们2年升级一次新工艺的计划已经失效了,由于10nm之后半导体工艺越来越复杂,进度不可避免地要推迟,新工艺处理器升级周期也要拉长,简单梳理一下就是:

    2013年:Haswell架构,22nm 3D晶体管工艺
    2014年:Broadwell架构,14nm 3D晶体管工艺
    2015年:Broadwell、Skylake架构,14nm 3D晶体管工艺
    2016年:Kabylake架构,14nm 3D晶体管工艺

    以上是已经确定的了,今年下半年还是14nm工艺,不过架构从skylake升级到kabylake,CPU架构小改,GPU可能会有明显升级,之前有消息提到会引入GT4级别核显,eDRAM缓存容量容量翻倍到256MB。

    2017年:Cannonlake架构,10nm工艺
    2018年:Icelake架构,10nm工艺
    2019年:Tigerlake架构,10nm工艺

    明年Q3季度发布首款10nm工艺的Cannonlake架构处理器也是之前确定的了,再往后是Icelake,之前有消息提到Intel在Haswell上引入、Skylake上去除的FIVR模块可能会重新回归,用在Icelkae处理器上,预计2018年下半年发布。

    如果届时7nm工艺还不够成熟,传闻称Intel还准备了第三款10nm工艺的处理器Tigerlake,预计会在2019年发布。

    这么算来,7nm工艺最可能的时间是要等到2020年了,不过现在连产品名称还没有呢。


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    • 游客  2016-01-21 23:30

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      12#

    • 游客  2016-01-21 20:16

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    • 游客  2016-01-21 12:50

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    • 游客  2016-01-21 12:31

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    • 游客  2016-01-21 11:37

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    • 游客  2016-01-21 11:33

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    • 游客  2016-01-21 10:56

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    • 游客  2016-01-21 10:26

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    • 我匿名了  2016-01-21 10:19

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    • 游客  2016-01-21 10:08

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