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三星将会在平泽建立新的半导体工厂:专注EUV产能,提供5nm工艺

三星于昨日宣布,他们将会在韩国平泽市建立一个新的半导体工厂。新工厂将会专注于EUV光刻技术,主要提供5nm EUV产能。

台积电5nm工艺速览:引入更多EUV掩膜,密度提升1.84x

最近有业内消息称,台积电将会在下个月开启5nm制程的大规模量产,上周六,WikiChip将他们从各种会议上掌握到的台积电5nm工艺信息整理成了文章,本文就简单介绍一下台积电5nm制程的一些特性与它达成的目标。

三星明年将量产DDR5内存,会用上EUV工艺

虽然之前有很多消息都说2020年Intel和AMD两家都会拿出支持DDR5内存的平台,不过目前来看这最快得推到明年了,三星宣布,他们将在2021年量产DDR5内存,并且使用EUV工艺,制作将会在韩国平泽的新工厂进行,三星同时宣布第一批采用EUV工艺的DDR4内存已经出货了100万。

超能课堂(217):什么是EUV光刻机?为什么大家都在追求它?

近些年来EUV光刻这个词大家应该听得越来越多,三星在去年发布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工艺打造的芯片,台积电的7nm+也是他们首次使用EUV光刻的工艺,苹果的A13和华为麒麟990用的就是这工艺,Intel也打算在他们的7nm节点上切入到EUV工艺,为什么这些半导体巨头们都在追捧EUV工艺呢?

紫光展锐发布虎贲T7520 SoC:6nm EUV工艺,集成5G基带

紫光展锐今天下午举行了线上发布会,发布了虎贲T7520新一代5G SoC产品。关于这款5G SoC,紫光展锐表示,拥有在技术工艺、通信能力、AI、视觉能力、续航能力,安全性六大方面具有优势。

三星已经在其V1工厂开启EUV生产线的大规模量产

三星于昨晚宣布其已经在V1工厂中开启EUV生产线的大规模量产,这条生产线是三星第一条采用EUV技术的专用生产线。

ASML称从2018年至今已经生产了250万张EUV晶圆:最新机器每小时可生产170张

在刚刚过去的IEDM 2019大会上面,ASML这家目前全球最大的EUV光刻机生产商给出了一个数据:从2018年1月份以来,EUV光刻系统生产的晶圆数量已经超过2011年至2017年的总和,达到250万片,而从图上可以看到,从2013开始总共已经生产了多达450万张EUV晶圆。

全球对于EUV设备的需求不断上升:ASML三季度财务数据大涨

随着老的深紫外光刻(DUV)在7nm/10nm时代到达极限之后,极紫外光刻就成了全村人的希望。台积电基于EUV开发出了他们的7nm+工艺,目前已经确定将用在几款新的手机处理器上,而三星那边也宣布自己基于EUV的7nm工艺投产并且已经有实际的产品出来了,Intel也是在之前就宣布将在7nm时代使用EUV工艺。

NVIDIA明年上半年推出Ampere安培显卡,采用三星7nm EUV工艺

虽然NVIDIA最近会推出以些GTX 16系列的显卡来面对AMD新显卡的威胁,不过他们的工作重点其实是明年的新显卡架构,其实关于NVIDIA下一代显卡Ampere安培的信息已经不是第一次传出,之前台湾的电子时报还有ECC认证网站都证实了它的存在。

三星发布Exynos 9825 SoC:首个采用7nm EUV工艺的芯片

明天凌晨就是三星的Unpacked新品发布会了,三星将在会上发布Galaxy Note 10,而三星今天正式公布了Galaxy Note 10将要搭载的Exynos 9825 SoC的详细信息。这款芯片最大的意义是正式宣布的SoC中第一款使用7nm EUV工艺的。此前在Galaxy S10上三星只能用8nm的Exynos 9820跟台积电7nm的骁龙855竞争,恐怕是三星这半年来的心结,现在算是扳回一局。

三星EUV芯片工艺狂刷版本号:6LPP、5LPE、4LPE依次推出

现在已经有芯片代工厂的光刻工艺进化到7nm EUV工艺了,同时不久后就会有芯片采用7nm EUV工艺制造。此前台积电已经公布了他们的EUV时代光刻工艺,现在三星也公布了他们的EUV工艺规划,比较有意思的是,三星未来工艺的迭代是6LPP、 5LPE、以及4LPE。

台积电的下一步:7nm EUV、5nm以及3nm

上个月在日本召开的VLSI 2019峰会上,台积电(下称TSMC)举办了一次小型的媒体会,会上他们公开了目前他们在先进制程工艺方面的进度。这篇文章就带大家来梳理一下目前TSMC的先进工艺进度,对于未来两到三年半导体代工业界的发展有个前瞻。

台积电加速发展新工艺:目前3nm EUV工艺进展顺利,已有早期客户参与

近两年先进半导体制造主要是也终于迎来了EUV光刻机,这也使7nm之后的工艺发展得以持续进行下去。台积电和三星都对自家工艺发展进行了规划,现在两家已经逐步开始进行7nm EUV工艺的量产,随后还有5nm工艺及3nm工艺。尽管我们在今年下半年才能见到7nm EUV工艺制造的芯片,但根据Anandtech的报道称,台积电的3nm EUV工艺发展顺利,而且已经有早期客户参与。

NVIDIA确认下代GPU更换代工厂:三星上位,采用7nm EUV工艺

芯片代工领域台积电无疑是市场中重要的一环,而且凭借着苹果、AMD等厂商的订单,让台积电更早开启7nm芯片的制造。不过现在也有厂商跟上了步伐,今年三星加速了其工艺的升级,其7nm EUV工艺生产线将在年底开始大规模生产。此前传出三星迎来了大客户NVIDIA,其下代GPU将由三星代工。根据近日The Korea Herald报道称,NVIDIA证实将由三星代工其下一代GPU。

DRAM厂商正在评估采用EUV技术,主要是为了降低单位生产成本

半导体元件的制造,制程越小越困难,所面临的物理限制越来越高,现在能量产的工艺节点已经来到7nm,往后制程的升级越来越困难,所以催生出了EUV光刻技术,比如在同样是7nm制程的情况下,可将晶体管密度提升,同频率下功耗降低,不过EUV光刻技术还有一个优点就是有助于降低单位生产成本。现在,DRAM厂商在面对DRAM价格不断下跌的困境下,已经在考虑导入EUV技术用于制造DRAM,主要目的是为了降低成本。

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