半导体制造工艺进入10nm之后，难度越来越大，目前在用的193nm光刻技术已经不足以应付未来7nm、5nm工艺需要，所以业界就在研发EUV极紫外光刻工艺。这种光刻机难度非常大，10年前就看到Intel等公司联合研发EUV光刻机的新闻了，到现在EUV光刻机还没有成熟，不过曙光也在眼前了，EUV光刻机已经开始少量出货，产能也在逐步提升，TSMC、三星都会在第二代7nm节点商用EUV工艺。

全球现在能研发EUV光刻机的也就荷兰ASML公司，为此还得到了Intel、TSMC、三星等公司大笔投资，这三家也是目前EUV光刻机最主要的客户。根据他们发布的2016年Q4财报，EUV光刻机去年订单就有18台，总价值超过20亿欧元，换算下来一台EUV光刻机至少要1亿多欧元了，接近8亿人民币。

国内公司忌惮的倒不是价格，而是EUV光刻机现在并不能出口到中国，欧美对中国的高科技出口有限制，国内的半导体公司就算是想买也买不到EUV光刻机。

不过话说回来，中国这么大的市场，ASML公司一直错过机会也不甘心，无论如何也都会进入中国市场。日前他们宣布与中国上海的集成电路研究开发中心（ICRD）达成了合作协议，双方将在上海设立一个培训中心，用于支持ASML客户支持，同时还会对中国境内的集成电路工程师展开技术培训。

这次合作虽然只是培训中心，但也是一个开始，一步到位地在国内出售先进光刻机并不现实。从此前展讯公司的表态来看，美国政府部门并不限制14nm工艺进入中国，否认同级别的TSMC 16nm工艺落户南京也不可能的。

在光刻机领域，大家现在只知道荷兰ASML公司，EUV光刻机更是要看ASML的进展，但在90年代日本的尼康、佳能公司因为光学实力雄厚，在半导体制造装备领域开拓的也早，当年比ASML公司还要辉煌，Intel之前的半导体工厂就大量使用了尼康的Ar-F immersion光刻机，但是现在包括Intel、TSMC、三星及GF在内的主要半导体公司都转向了ASML的光刻机，前三家公司之前还大笔投资了ASML公司，以推动ASML公司的EUV光刻机研发，同时他们也是ASML EUV光刻机最主要的用户。

后两家去年宣布达成战略合作，ASML斥资20亿美元入股卡尔蔡司SMT公司，双方将合作研发数值孔径在0.5以上的EUV光刻机，可以进一步将目前0.33孔径光刻机的印刷尺寸从13nm减少到5nm，这些技术意义重大，不过难度也很高，预计到2024年才能有产品问世。

尼康在光刻机市场沉沦了这么久，今天忽然宣布起诉荷兰ASML及其合作伙伴卡尔蔡司SMT公司。尼康指出ASML去年76.3%的营收——大约是35亿欧元，都来自沉浸式光刻设备，尼康公司认为这些设备使用了他们的专利技术。尼康将寻求禁令停止侵权设备销售，并要求ASML及卡尔蔡司SMT赔偿他们的损失。

根据尼康所述，2001年他们就在美国起诉ASML公司侵犯了他们的沉浸式光刻技术专利权，2004年双方签署了交叉授权，旧的专利授权是永久性的，部分专利授权到2009年12月31日。

双方同时声明在2010年1月1日到2014年12月31日期间互不起诉双方的专利侵权。

对于尼康公司突然发起专利诉讼，ASML公司随后也作出公开回应，他们指出尼康的指控是毫无根据也毫无必要。过去的几年中，ASML一直希望跟尼康公司就专利授权延长展开谈判，但是尼康公司并未作出回应，现在选择采取法律行动，ASML对此感到失望。

不过ASML依然希望跟尼康公司达成和解，认为双方应该在市场上而非法庭上展开竞争。

PS：话说回来，尼康要是能在市场上竞争过ASML公司何必选择专利战？一旦到了打专利战的地步，说明双方已经无法正面竞争了，毕竟现在的光刻机市场几乎被ASML独占了，尼康的市场份额在新工艺中可以忽略不计了。

光刻机对大多数人来说显得太高端，有兴趣了解半导体制造工艺的读者可以加小超哥（ID：9501417）微信，可以具体咨询处理器制造过程中的每个步骤。

对于芯片制造，有种戏谑的说法是CPU原材料是沙子，凭什么卖这么贵——这当然是玩笑，沙子和晶圆都有二氧化硅成分，但完全是不同的东西，成本更不可比。之前我们也科普过CPU制造过程，完成整个过程需要很多工序，其中关键部分就是光刻，光刻工艺是这个制造环节是最为复杂的，成本最为高昂的，因为光刻模板、透镜、光源共同决定了“印”在光刻胶上晶体管的尺寸大小。

目前的光刻工艺使用的是193nm的紫外光，随着制造工艺的提升，紫外光光刻技术也将进入EUV极紫外光刻阶段，但EUV工艺目前还不够成熟，产能达不到大规模量产标准。

CPU制造过程中，光刻是非常关键的一步

光刻工艺需要光刻机，全球有能力生产光刻机的公司不多，日本尼康、佳能也有这方面的技术，但目前只能混迹低端市场，能玩转高端市场、特别是EUV光刻机的只有荷兰ASML公司了，这也是Intel、TSMC、三星等晶圆厂都在争取的新一代生产装备。

该公司日前发布了2016年财报，全年营收67.95亿欧元，同比增长8%，毛利率44.8%，净利润14.7亿欧元，同比增长6%。

2016年Q4季度新卖出6台EUV光刻机，如此一来ASML公司售出的EUV光刻机总量就达到了18台，总价值超过20亿欧元，算下来平均每台设备超过1亿欧元，放在全球来看，单一设备能达到这个价格的也没几个。

根据ASML公司所说，2017年他们预计交付12套EUV光刻机，芯片厂商大规模量产EUV光刻工艺预计会在2018年底到2019年初，也就是在7nm节点及之后才会量产EUV工艺。